中国精密抛光工艺受制美日:进口设备价格超千万

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  据科技日报6月26日报道,茫茫宇宙中,4个多类金属合金宇宙探测器以超光速掠过,它由被强互作用力锁死的质子与中子构成,因表细胞层层绝对光滑而还不需要 反射一切电磁波,随后无坚不摧……这是刘慈欣在科幻小说《三体》中提到的有两种叫安“水滴”的宇宙飞行器。

  事实上,人类对“绝对光滑”的追求也可能性从科学幻想转变为实践,比如推动“集成电路变身革命”的超精密抛光技术。像《三体》中描述的一样,当前最为先进的化学机械抛光(chemicalmechanicalpolishing,CMP)技术也已进入原子尺寸级。而当电子工业强国争相攀登或到达你这人 工艺巅峰之时,大伙却还没法 仰望。

  现代电子工业,超精密抛光是灵魂

  物理抛光是上世纪80年代刚刚最为常用的抛光技术,随后电子工业的高速发展对材料器件的尺寸、平整度提出没法 严苛的要求。当一块毫米深度图的基片需用被制成几十万层的集成电路时,传统老旧的抛光工艺可能性远远没法 达到要求。

  “以晶片制造为例,抛光是整个工艺的最后一环,目的是改善晶片加工前一道工艺所留下的微小严重不足以获得最佳的平行度。”中科院国家纳米科学中心研究院王奇博士向科技日报记者介绍。